MICRONOX MX2302 es una mezcla de solventes de base agua diseñada para eliminar el flux y los residuos de pasta difíciles en las protuberancias de obleas que se encuentran en la unión de troqueles, el flip chip, el pilar de cobre y los ensambles de semiconductores emergentes. MX2302 se utiliza tal como se recibe en todos los sistemas de limpieza por inmersión, incluyendo sistemas centrífugos de base agua, espray por inmersión, ultrasónicos y megasónicos. MICRONOX MX2302 es compatible con todos los materiales de soldadura y capas metálicas, así como con los materiales de fabricación comunes en la producción y limpieza de ensambles.

Un gran beneficio del MICRONOX MX2302 es su solubilidad total en agua, lo que mejora la facilidad de enjuague y eliminación de la contaminación iónica. MX2302 tiene una presión de vapor baja, lo que reduce las preocupaciones sobre la inflamabilidad y de olores. MICRONOX MX2302 tiene una tensión superficial baja de 20-26 dinas/cm, lo que mejora la limpieza debajo del eje Z del componente o empaque, y está regulado para mantener un pH estable.

Datos del producto
APLICACIÓN: Limpieza después de Wafer Bumping
PROCESO TÍPICO
PROCESO: Todos los sistemas de inmersión
CONCENTRACIÓN: 100%
TEMPERATURA: <165°F / 74°C
ENJUAGUE: Enjuague con agua desionizada
SECADO: Aire caliente
PROPIEDADES DEL PRODUCTO
pH (10g/L): No aplicable
PUNTO DE IGNICIÓN: 180°F / 82°C
PUNTO DE EBULLICIÓN: 302°F / 150°C
SOLUBLE EN AGUA: Completamente
COV, @ 100% 1035 g/L

NOTA: Los parámetros de proceso anteriores son recomendaciones basadas en pruebas exhaustivas realizadas en el laboratorio de aplicaciones de KYZEN. Su representante de ventas de KYZEN puede ayudarle a optimizar los parámetros de su proceso particular.

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