AQUANOX A4651US mit niedrigem pH-Wert wurde ausschließlich für die Verwendung in Systemen mit Ultraschall-Tauchbädern entwickelt. A4651US reduziert die Kavitationsschwelle, entfernt vollständig Flussmittelrückstände von Leiterplattenbaugruppen und ist mit einer Vielzahl von Metallkomponenten und Substraten einschließlich Aluminium und Kupfer kompatibel. AQUANOX A4651US reinigt konsistent die meisten bleifreien, No-Clean, harzbasierten und wasserlöslichen Flussmittelrückstände auf Baugruppen.

AQUANOX A4651US liefert ohne Emulgator-Additive glänzende Lötstellen und erzielt auch bei modernsten Flussmittelformulierungen hervorragende Ergebnisse. Je nach Flussmitteltyp kann A4651US verdünnt oder unverdünnt verwendet werden. AQUANOX A4651US liefert konsistent hervorragende Reinigungsergebnisse bei minimaler Badüberwachung.

Produkteigenschaften
Anwendung: Reinigung von Elektronik-Baugruppen
TYPISCHE EINSATZBEDINGUNGEN
PROZESS: Ultraschall
KONZENTRATION: SnPb-Legierungen ≤ 25% Bleifrei-Legierungen ≤ 30%
TEMPERATUR: <66°C
SPÜLEN: warmes DI-Wasser
TROCKNEN: Heißluft
PRODUKTMERKMALE
pH (10g/L): 9,7
FLAMMPUNKT: Keiner bis zum Siedepunkt
SIEDEPUNKT: 99°C
WASSERLÖSLICHKEIT: vollständig löslich
VOC, @ 10% 55,1 g/L

HINWEIS: Obige Parameterempfehlungen basieren auf umfangreichen Tests, die in KYZENs Anwendungslabor durchgeführt wurden. Ihr KYZEN-Produktspezialist berät Sie gerne bei der Optimierung Ihrer Prozessparameter.

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